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中美企业芯片专利对垒和解收场
来源:中国知识产权报/中国知识产权资讯网 更新时间:2019年07月11日  浏览次数

  中美两家芯片生产企业中微半导体设备(上海)有限公司(下称中微半导体公司)和维易科精密仪器国际贸易(上海)有限公司(下称上海维易科公司)在激烈的市场竞争中互相发起知识产权攻防战:先是上海维易科公司的母公司美国维易科精密仪器公司(下称美国维易科公司)于2017年4月在美国纽约东区地方法院提起针对中微半导体公司晶圆承载器供应商西格里碳素公司(下称SGL公司)的专利侵权诉讼,请求法院发布禁令,禁止SGL公司向中微半导体公司出售采用了美国维易科公司金属有机化学气相沉积(MOCVD)专利技术生产的晶圆承载器,包括专为中微半导体公司 MOCVD 设备设计的晶圆承载器,并得到法院支持;随后,中微半导体公司于2017年7月在中国向福建省高级人民法院(下称福建高院)起诉上海维易科公司侵犯其“化学气相沉积装置”(专利号:ZL201220056049.5)实用新型专利权,索赔上亿元。然而,在国家知识产权局原专利复审委员会(下称原专利复审委员会)作出维持中微半导体公司涉案专利权有效的审查决定后不久,这场备受关注的芯片企业知识产权大战发生了戏剧性的变化,美国维易科公司、中微半导体公司、SGL公司共同于2018年2月9日宣布达成全球和解,终止三方之间的所有法律行动。

  中美芯片企业对垒

  芯片作为网络时代的基石,在信息化社会的发展中具有无可比拟的重要性,正是因此,发生在中美两家芯片企业之间的知识产权大战受到了极大关注。

  据了解,芯片生产过程异常复杂,对于设备的要求极高,国际上最主要的芯片设备技术掌握在美国、日本企业手中。按照不同工序,芯片生产设备分为光刻设备、刻蚀设备、镀膜设备、量测设备等,其中镀膜设备按照生产工艺的不同,又分为物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)等多种。MOCVD设备属于化学气相沉积(CVD)设备,这种设备用于在晶圆表面镀上金属、氧化物、氮化物等各种不同的薄膜,从而形成局部晶体管结构。常见的如LED灯芯片大多采用MOCVD设备生产。MOCVD设备近年来得到较快发展,目前已经占全部芯片设备市场的20%左右。

  在MOCVD设备领域,美国维易科公司具有世界领先的技术水平,掌握大量核心技术,占据了该设备生产和销售的重要地位。中微半导体公司则是中国芯片设备生产商的后起之秀,由于致力于技术研发,已经成为国产MOCVD设备厂商中的领军者,近年来提交了1200多件专利申请,其中涉及MOCVD设备的专利超过100件。

  目前,中微半导体公司与美国维易科公司已成为全球最主要的两家MOCVD设备生产商。

  2017年4月,美国维易科公司率先在纽约东区地方法院提起专利侵权诉讼,指控SGL公司向中微半导体公司销售的晶圆承载器侵犯其专利权。美国维易科公司不但提出了高额赔偿要求,还请求法院发布临时禁令,禁止SGL公司继续向中微半导体公司出售晶圆承载器。晶圆承载器是MOCVD设备的核心组件之一。

  美国维易科公司的诉讼请求如果获得法院支持,不但会对中微半导体公司构成严重影响,还会对国内众多下游LED企业造成严重影响。

  在此背景下,中微半导体公司采取了反击措施。2017年7月,中微半导体公司向福建高院起诉上海维易科公司侵犯其“化学气相沉积装置”(专利号:ZL201220056049.5)实用新型专利权,索赔上亿元。同样,中微半导体公司请求福建高院发布禁令,禁止上海维易科公司进口、制造、向任何第三方销售或许诺销售侵犯中微半导体公司专利的晶圆承载器产品。

  上海维易科公司旋即向原专利复审委员会提起针对“化学气相沉积装置”(专利号:ZL201220056049.5)的专利权无效宣告请求。

  无效决定促成和解

  “化学气相沉积装置”(专利号:ZL201220056049.5)的专利权是否有效成了中微公司反击能否成功的决定性因素,因而受到极高关注。

  该专利涉及一种化学气相沉积装置,其中托盘受到旋转轴顶部支撑,并通过二者之间的摩擦力使得托盘围绕旋转轴转动;同时还包括一个同步运动配合结构,用于防止旋转轴和托盘发生相对运动。

  在现有技术中,二者的连接方式是通过螺钉固定连接,使托盘永久安装在转轴上。这种方式能够保证托盘和转轴的旋转完全同步,并且使使用过程中的振动减到最小,但是它也存在一些缺陷,比如,对安装精度要求极高,稍有偏差就会导致托盘无法保持水平,而且难以拆卸,维护和更换程序复杂,成本较高。

  采用涉案专利技术则既能实现自平衡,又能防止转轴和托盘之间发生相对位移,以保证对托盘上基片的精准定位。

  上海维易科公司作为请求人认为,该专利不具备新颖性或创造性。

  但合议组经审理认为,上海维易科公司提供的证据虽然分别具有摩擦传动和接触传动的方案,但并未给出两者结合的启示,且对于两种传动共同使用均给出了相反的技术教导。因此,上海维易科公司主张涉案专利不具备新颖性和创造性的理由不能成立。

  最终,合议组于2017年11月底作出审查决定,在专利权人修改后的权利要求书的基础上维持专利权有效。

  该案合议组在接受本报记者采访时表示,该案诠释了发明构思的分析在技术特征比对和技术启示判断中的重要作用。合议组认为,发明构思体现了发明创造的技术本质。此案中,从发明构思的角度来分析,确定同步运动配合结构和独立保持装置这两个相似的构件各自所解决的技术问题,更容易准确比对出二者是否相同。

  该专利权被宣告维持有效后,福建高院于2017年12月初作出裁定,同意了中微公司针对上海维易科公司提出的禁令申请,禁止上海维易科公司进口、制造、向任何第三方销售或许诺销售侵犯中微半导体公司专利的晶圆承载器产品。

  中国海关在福建高院禁令的基础上,扣押了上海维易科公司进口到国内的涉嫌侵权产品。

  就在业界都以为双方纠纷愈演愈烈、逐步升级之际,2018年2月初,美国维易科公司、中微半导体公司、SGL公司共同宣布达成全球和解,同意就三方之间的未决诉讼达成全球性和解,并友好地解决所有的未决纷争,包括中微半导体公司在福建高院针对上海维易科公司的诉讼和美国维易科公司在美国纽约东区地方法院针对SGL公司的诉讼。作为和解内容的一部分,美国维易科公司、中微半导体公司和SGL公司及它们的附属公司之间在全球范围内所有的法律行动(在法院的、在专利局的及其他的)将会被撤诉或以其他方式撤回。

  在业内人士看来,原专利复审委员会作出的维持专利权有效的决定无疑是推动双方和解的重要因素之一,类似案例凸显专利作为有效的强力武器在企业角力中的重要作用,同时也提醒国内企业,在激烈的国际市场竞争中,应当充分重视提高自身的知识产权创造、运用和保护能力。

  决定亮点

  作为最接近的现有技术,证据1中通过摩擦配合使得晶片托架随主轴旋转,跟设置独立保持装置属于两个并列的技术方案,且证据1的发明目的在于避免CVD反应器中永久性安装的基座存在的明显增大晶片支撑组件总体的热惰性和机械惯量的缺陷,因此证据1优选仅通过摩擦力使得晶片托架保持在主轴上,没有任何保持装置,由此能使托架-主轴组件的机械惯量减到最小,并能够降低主轴上的应力。如果主轴必须突然停止,且施加在晶片托架上的惯性力超过它与主轴顶端之间的摩擦力,晶片托架就可能独立于主轴旋转,从而减小主轴上的应力。因此,证据1并不需要避免晶片托架和主轴之间的相对转动,反而可通过相对转动来减少主轴的应力。而且,在证据1中设置摩擦配合或者独立保持装置,其目的均是将晶片托架保持在主轴上,通过摩擦配合或独立保持装置均足以单独实现上述目的,因此没有必要将两种方案同时使用。

  证据6中通过采用接触传动,避免了摩擦传动引起的部件磨损,减少了生产成本。因此,证据6对于接触传动和摩擦传动的共同使用也给出了相反的技术指导。而证据2和4中均未公开采用摩擦力驱动二者同步转动的技术特征。

  此外,证据1中的独立保持装置、证据2中的驱动齿轮、证据4中的支持端以及证据6中的定位键和定位槽与本专利中的同步运动配合结构在功能上存在差异,上述证据中各装置的作用均是通过接触作用力保持主轴和托盘同步运动,接触作用力在托盘的运动过程中必须时刻发挥作用,托盘和主轴之间不再需要摩擦力作用,因此这些装置均为接触传动装置。而本专利的同步运动配合结构其目的仅在于确保主轴和托盘不发生相对转动,在托盘随主轴的运动过程中,主要由摩擦传动发挥作用,因此本专利的同步运动配合结构并不属于接触传动装置。据此,上述证据无法给出将摩擦传动与同步运动配合结构相结合的技术启示。(本报记者  祝文明) 

  (中国知识产权报独家稿件,未经授权不得转载。)

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